Review Articles

2016
白藤 立, 竹内 希, プラズマと液体との相互作用, プラズマ・核融合学会誌 92, 693-699 (2016).
2015
杤久保 文嘉,白藤 立, 気液界面および液中プラズマシミュレーションの現状, プラズマ・核融合学会誌 91, 307-313 (2015).
2014
白藤 立, 集積化多相混合プラズマ源, プラズマ・核融合学会誌 90, 392-397 (2014).
2013
白藤 立, プラズマプロセスの設計, ケミカルエンジニヤリング 58, 881-886 (2013).
白藤 立,齋藤 永宏,高井 治,杤久保文嘉,安岡康一,金子俊郎,石島達夫,高橋憲司,竹内希,白井直機, 液体が接するプラズマ「プラズマ電気化学」, 表面科学 34, 547-552 (2013).
2012
2011
白藤 立, プラズマCVD の化学反応工学, 高温学会誌 37, 281-288 (2011).
2010
白藤 立,齋藤 永宏,高井 治, プラズマ滅菌・殺菌5 プラズマ滅菌に於けるプラズマ源の装置と特徴について, 防菌防黴学会誌 38, 679-685 (2010).
2009
2008
2007
T. Shirafuji, Preparation of low-dielectric-constant films using fluorocarbon plasma CVD methods, J. Plasma Fusion Res. 83, 350-355 (2007).
2006
T. Shirafuji, Preparation of thermally stable low-k thin films using C6F6 plasma - Gas phase diagnostics and characterization of film structure -, Oyobutsuri 75, 892-896 (2006).
2005
2004
2003
2002
2001
2000
T. Shirafuji, Y. Hayashi, S. Nishino, Plasma enhanced chemical vapor deposition of interlayer films having a low-dielectric constant, J. Vac. Soc. Jpn. 43, 504-511 (2000).
1999
T. Shirafuji, Gas chemistry, film properties and global warming problems on fluorocarbon plasma chemical vapor deposition, Oyobutsuri 68, 532-536 (1999).
1998
1997
1996
1995
1994
T. Shirafuji, K. Tachibana, Low-temperature growth process of polycrystalline silicon for thin film transistors, J. Vac. Soc. Jpn. 37, 875-880 (1994).